BenchTop Turbo薄膜沉积解决方案

热蒸发和样品制备

 

BenchTop Turbo灵活、紧凑,可用于热蒸发和样品制备,是一种功能强大、用途广泛的高真空蒸发和溅射系统。其能够进行全范围、低电压(电阻)热蒸发,且可以通过溅射生产细晶粒薄膜,用于高分辨率显微镜领域。 

BenchTop Turbo可安装两个靶,亦可进行共聚焦沉积,非常适合热阻蒸发、样品制备溅射和旋转遮蔽。其性能稳定,可靠性高。

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用途

  • 低压电阻(热)蒸发
  • 高真空度碳镀膜
  • 高分辨率显微镀膜
  • 旋转遮蔽
  • 狭缝清洁

优势

BenchTop Turbo可节省拥挤的实验室空间,安装在32英寸宽的台面上,其具有触摸屏界面,易于维护和运行。使用辉光放电选项,可应用氩等离子体清洁SEM样品和TEM格栅,清除表面的碳氢化合物污染。  基于此特征的碳支撑膜具有亲水性,因而可用水溶液浸润。 

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