热蒸发解决方案

热蒸发是物理气相沉积(PVD)的常用方法。 这是一种最简单的PVD形式,通常使用电阻热源在真空环境中蒸发固体材料,以形成镀膜。材料在高真空室中加热,直到产生蒸汽压。蒸发的材料或蒸气流利用热能穿过真空室,并涂覆基片上。


热蒸发用途

热蒸发可以沉积金属和非金属,包括铝、铬、金、铟和许多其他金属。通过沉积银或铝等单一金属,热蒸发最常用于涉及电接触的应用。更复杂的应用包括多个组件的共聚焦沉积,可以通过仔细控制各个坩埚的温度来实现。

热蒸发可用于沉积镀膜器件的金属接触层,例如,OLED、太阳能电池和镀膜晶体管。此外,该技术可用于沉积用于晶片键合的厚铟层。

为了更好地获得一致、高质量的结果,丹顿真空公司使用石英晶体速率传感器、温度或光学监控系统(OMS)控制沉积速率。阅读更多信息有关热蒸发和样品制备解决方案、DV-502和Benchtop Turbo以及您如何从中获益。


热蒸发系统

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