离子源和系统控制

丹顿创新历史悠久,并一直延续至今。我们开发了一系列用于薄膜沉积的专用系统控制和离子源。通过内部开发的子系统,系统集成度更高且性能更好,同时不会增加外部供应商的昂贵开销。这会带来更高的收益和更好的投资回报。

凭借庞大的内部开发和应用团队,我们继续扩展沉积系统产品组合。目前的项目包括无中和器射频离子源技术。


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