Desk V样品制备系统配制用于蒸发和溅射，是一种高生产率的解决方案，可提供卓越、一致和高度可重复的结果。 Desk V镀膜系统提供两种版本：Desk V HP和Desk V TSC。Desk V TSC，是涡轮分子泵溅射镀膜机选项，专为高分辨率显微镜样品设计，适用于氧化和非氧化金属。Desk V磁控溅射装置精确沉积导电镀膜，其热蒸发选项可以沉积薄碳层(使用棒材或纱线)。
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Desk V可沉积各种各样的镀膜材料（包括铱），而可调节的旋转和倾斜台确保镀膜高度均匀，并具备极佳的一致性和覆盖性，即使在表面高度不规则的样品上也是如此。 Desk V包括易于更换的插入式绝缘旋转样品台，其即插即用风格可使您迅速上手使用。
辅助资料 Desk V数据表
案例分析 防止SEM样品制备过程中碳氢化合物的背景干扰
视频&网络会议 Desk V设置
