Desk V 薄膜沉积解决方案

样品制备

denton vacuum desk v thin film deposition solution

Desk V样品制备系统配制用于蒸发和溅射,是一种高生产率的解决方案,可提供卓越、一致和高度可重复的结果。
Desk V镀膜系统提供两种版本:Desk V HP和Desk V TSC。Desk V TSC,是涡轮分子泵溅射镀膜机选项,专为高分辨率显微镜样品设计,适用于氧化和非氧化金属。Desk V磁控溅射装置精确沉积导电镀膜,其热蒸发选项可以沉积薄碳层(使用棒材或纱线)。

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用途

  • SEM样品制备(溅射和碳蒸发)
  • TEM样品制备(碳蒸发)
  • X射线微量分析样品制备(碳蒸发)
  • 高分辨率样品制备
  • 半导体
  • 地质学
  • 法医学
  • 材料科学
  • 药物
  • 生命科学

优势

Desk V可沉积各种各样的镀膜材料(包括铱),而可调节的旋转和倾斜台确保镀膜高度均匀,并具备极佳的一致性和覆盖性,即使在表面高度不规则的样品上也是如此。 Desk V包括易于更换的插入式绝缘旋转样品台,其即插即用风格可使您迅速上手使用。

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