Desktop Pro薄膜沉积解决方案

磁控溅射

denton vacuum desktop pro thin film deposition solution

如果实验室空间是您关心的问题,紧凑、高真空Desktop Pro溅射系统生产能力大,而占用的桌面空间不到36英寸(914mm)。Desktop Pro可以提供共聚焦溅射以及磁性和/或介电材料的沉积。

Desktop Pro以共焦结构支持一个或两个阴极,在4英寸直径上提供高薄膜均匀性。其能够在不到30分钟的时间内抽气至高真空(10-6托范围),这是需要快速转换的多用户环境中完美解决方案。

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用途

  • 溅射
  • 材料研究
  • 产品质量控制和质量保证
  • 半导体故障分析
  • 纳米技术
  • 化合物半导体

优势

这一直流和射频溅射系统将提高您的研究生产力,提供一致、可重复的性能,同时,可大幅节约测试环境的空间。

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