在光学干涉膜或x射线反射镜光学器件等要求苛刻的场合需要高质量的薄膜时，Infinity离子束沉积系统将是理想的解决方案。离子束沉积(IBD)系统可根据工艺要求定制，可选配多种硬件和监控系统，其可做到沉积速率稳定，并装有第二离子源用于预清洗和离子辅助沉积。
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有了Infinity，您可通过独立控制离子束能量和通量，从而更好地控制薄膜的微观结构、化学计量和应力，完成多种材料的沉积。Infinity沉积速率稳定，可非常好地控制光滑表面的膜厚和均匀性。
辅助资料 Infinity数据表
学术论文 离子束电流密度与氧化膜堆水分稳定性的相关性
工具&参考文献 离子束蚀刻速率
