Integrity薄膜沉积解决方案

电子束和热蒸发

denton vacuum integrity thin film deposition solution

对于大批量生产,Integrity系统是正确的选择。该系统配置用于高要求的光学镀膜、半导体和化合物半导体应用。该解决方案提供高产量、应力控制、高沉积速率、PID控制、最佳粒度和薄膜结晶学。丹顿公司提供预先配置的特定应用工具,可以满足苛刻的过程要求。

联系销售员


用途

  • 激光腔面镀膜和其他激光应用
  • 高/低和窄带通滤波器
  • 天文和军事光学器件
  • 铟沉积用于焦平面阵列组件
  • GaAs和LED器件的金和相关镀膜
  • 半导体接地面镀膜
  • 活动CIGS层
  • 医疗组件

优势

Integrity的温度管理系统采用液体冷却基片台用于镀制细晶粒和纹理薄膜,以及具有较低熔点的材料沉积,例如,铟。您还可以对沉积束流进行准直控制,可以消除边缘效应,优化产量,并使您能够完全控制入射角,从而减少剥离问题。

为了更多的工艺灵活性,离子源可以集成用于离子辅助沉积或预清洁。多种腔室尺寸、固定选项和泵组件可满足您的生产要求。

特定应用的配置

  • 激光腔面镀膜机
  • 铟柱沉积
  • 精密光学器件—现在提供丹顿公司享有专利的Endeavor离子源

了解详情