电子束蒸发解决方案

电子束蒸发是一种热蒸发过程,与溅射一起,是两种最常见的物理气相沉积(PVD)之一。 电子束蒸发源将大量能量直接输送到源材料中,使得金属和介电材料(例如,金和二氧化硅)能够分别在极高的熔化温度下蒸发。因此,其可以沉积采用标准电阻热蒸发无法蒸发的材料。电子束蒸发的另一个好处是,沉积速率高于溅射或电阻蒸发速率。

在电子束蒸发中,蒸发材料可以直接放入水冷铜炉或坩埚中,并通过聚焦电子束加热。电子束产生的热量使材料蒸发,然后沉积在基片上,形成所需的镀膜。

电子束蒸发

 

e-beam evaporation diagram


电子束蒸发的优点

电子束蒸发用于沉积各种材料。电子束蒸发通常用于光学镀膜应用,例如,激光光学和太阳能电池板,眼镜和建筑玻璃,提供所要求的光学、电学和机械质量。与其他PVD工艺相比,电子束蒸发提供更高的材料利用效率,并降低成本。

丹顿真空设备有限公司的电子束蒸发系统配有可编程扫描控制器,为蒸发材料提供最佳加热,并最大限度地减少坩埚污染。对于多层膜设计,可以提供多坩埚电子束蒸发源,依次蒸发不同的蒸发材料,而不破坏真空。系统配置有用于单层膜和多层膜自动工艺控制的镀膜沉积控制器。实时光学监控硬件和软件可以完全集成到一个系统中,实现关键光学镀膜应用的自动化过程控制。

电子束蒸发可控、可重复,并且兼容使用离子辅助源,增强人们期望的镀膜特性性能。丹顿真空设备有限公司已经开发了两种用于电子束蒸发的系统,一种为研发和试生产提供多种配置,另一种的目标是具有特定应用配置的大批量生产。我们在为金属化、剥离和精密光学镀膜提供交钥匙工艺解决方案方面拥有50多年的经验。下面的电子束解决方案提供许多选项,满足您的应用需求。


电子束蒸发系统

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