薄膜沉积产品和技术

我们的薄膜沉积技术通过兼容多种工艺能力、易用性、出色的可靠性和全球服务和支持,提供一致、可重复的结果。从一系列薄膜沉积解决方案,包括蒸发、热蒸发、磁控溅射、PE-CVD和离子束沉积,以及用于样品制备和原位控制的解决方案中进行选择来适应任意材料及应用。

我们多年来在薄膜技术方面的创新生成一系列解决方案,在实际生产环境中提供高产量、高度可靠性并降低总成本,为您带来丰厚的投资回报。作为薄膜技术的主要供应商,丹顿公司还提供增值服务和终身支持,设立了新的行业标准。

薄膜沉积解决方案的常见应用包括:精密光学、剥离和阶梯覆盖、激光器腔面双面镀膜、晶圆级铟封装、类金刚石、金属化和医用薄膜。从下面的技术中选择适合您的解决方案。


丹顿真空设备有限公司的应用实验室

丹顿真空设备有限公司支持创新。从基础研究到制造交接,我们的薄膜沉积技术在应用中提供优良的性能。我们的应用实验室是创新的关键。我们的实验室配备最先进的工具来制备前沿的溅射及蒸发薄膜并评估其性能。在我们发布新产品和子系统之前,应用团队与开发团队密切合作,助其达到成熟、值得生产的水平。

我们在薄膜方面的专业知识有助于客户应对挑战、降低风险并开发优化流程,其可在开发阶段中进行真实环境模拟。请立即联系我们,了解如何利用我们的应用实验室来测试您自有的流程开发。请参见我们的源头和控制

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