蒸发,磁控溅射,离子束溅射

 

DISCOVERY 785磁控溅射系统

 

Discovery 785是丹顿真空磁控溅射系列的最新型号,在原有的广受欢迎的Discovery 635型磁控溅射台的基础上进行了一系列扩展,包括:可以配置大型工件盘(700mm),大型溅射靶枪(12英寸),大型进样室从而使得该系统兼顾了研发及小批量生产的要求;可以有空间配置更多溅射靶枪(>4溅射靶)或者用于预清洗/刻蚀的离子源。

Discovery 785标准配置4个靶枪,溅射靶枪(直径可达到12")到工件盘的距离可以调节。可以实现直流溅射,射频溅射,直流脉冲溅射,共溅射,射频反应溅射以及射频偏压溅射。

Discovery 785 可以配备大型进样室,最大可传送直径700mm,重达50的传送盘。进样室上盖采用气动支撑杆,便于装载/卸载。进样室可以对工件进行加热。

Discovery 785采用Discovery系列通用的ProcessPro计算机全自动控制系统,稳定可靠,界面友好,操作简单直观,可根据客户需要生成程序、数据录入、远程控制和诊断。

 

下载产品宣传册以了解更多信息:Discovery Brochure (PDF 996 kb)

discovery 785  Discover 785

discovery 785 loadlock

Discovery 785 Loadlock

discovery 785 chamber

Discovery 785 Chamber

 

 

 

 

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