公 司 简 介

公司历史： 美国丹顿真空设备有限公司（Denton Vacuum）成立于1964年，是世界知名的真空镀膜设备生产商，总部位于美国东海岸的费城郊外的丹顿工业园。 丹顿公司的创始人理查德•丹顿先生是美国真空镀膜行业的先驱人物。二战初期，丹顿先生担任美国军方光学镀膜研发主管，为美军迅速打破德日军队在望远镜、瞄准镜、潜望镜、探雷器等军用光学设备上的优势做出了突出贡献。战后，丹顿先生将毕生精力投入到镀膜技术和产业的发展，是电子束蒸发、离子辅助沉积、磁控溅射、全自动化控制等现代镀膜技术的倡导者，也是美国镀膜设备协会的创始人。在他的领导下，丹顿公司镀膜设备制造技术一直保持着世界领先的水平。 1994年一月，为了满足公司发展的需要，公司从原先的Cherry Hill搬迁到现在的丹顿工业园，新厂址位于Moorestown，新泽西。占地24英亩，厂房面积47,000平方英尺。

技术优势： 作为世界一流的真空镀膜设备制造商，超过40年在薄膜工艺研究、设备制造方面的经验积累使丹顿公司在客户化设计、自动化控制、工艺支持等方面具有独特的优势： 客户化设计：长期从事设备制造和镀膜工艺研究使丹顿公司能够从设备应用的角度充分体会不同客户对镀膜设备性能要求的细微差别并有针对性地提出最佳个性化解决方案。 工艺支持：丹顿公司不仅掌握着处于世界领先地位的多种金属和介质尖端镀膜工艺专有技术和一个庞大的工艺数据库，还拥有一支最富实践经验的工艺开发专家团队，保证客户得到其他设备厂商无法比拟的工艺支持。 自动化控制：丹顿公司开发的ProcessPro®控制软件是业内公认的最先进的自动化控制平台之一，它将各部分软硬件有机地集成于一个完整的系统，使整个操作过程完全实现自动化。另外，ProcessPro®具有远程访问功能，可以实现远程操作，远程技术支持和远程故障诊断。 市场和客户： 成立40年以来，丹顿公司设计、制造了数以千计的蒸发、溅射、PECVD镀膜系统，广泛应用于精密光学、眼视光学、微电子/半导体、光电、通讯、医疗等领域的科学研究、产品开发和规模生产。客户遍及北美、南美、欧洲以及几乎所有环太平洋国家。 公司目前为世界上许多知名企业和科研机构提供设备，包括：General Electric，Varian， Intel，Motorola，Pentax，IBM，AT&T，Texas Instruments，3M，Kodak，Zeiss，Xerox，Northrop-Grumman，JDS Uniphase, TRW等著名跨国企业，以及诸多世界著名的学府和科研机构。 在中国大陆，现已有数十家研究院所和企业在使用着丹顿公司制造的镀膜系统。