蒸发，磁控溅射，离子束溅射

 

VOYAGER 等离子体增强化学气相沉积系统

 

 

丹顿真空的 Voyager 系统的开发成功为薄膜专家们提供了镀制一些在以前很困难的薄膜的能力，例如零件形状复杂，或者镀制过程需要很长时间的薄膜。Voyager 使用丹顿真空可靠的硬件配置，设备结实耐用，操作软件直观简便。 Voyager 系统是为满足薄膜行业对正形投影镀膜的需要而设计，低温工艺能力，以及天生的高均匀性，提供了一个实现化学气相沉积的方便的平台。

 PECVD 工艺特殊的优点还包括沉积材料没有限制，以及能够控制薄膜应力。Voyager 系统还有一个特点在于可以同时配置磁控溅射靶，从而可以同时实现等离子体增强化学气相沉积和磁控溅射沉积，提高了工艺灵活性。

 

Voyager PECVD系统

应用领域

·  工艺研发                                                                              ·   小批量生产

·  半导体和MEMS夹层介质钝化膜层                             ·  硬膜镀制，如：类金刚石膜，TiN等

·  无定形硅                                                                              ·  多晶硅

成熟的工艺：

·  SiO2                  ·  SiN                   ·  TiO2               ·  DLC(类金刚石膜)

硬件配置：

·  防腐式分子泵                             ·  射频偏压，水冷，基体支架

·  气体分配                                      ·  电容规

·  备选项： 进样系统 / 溅射阴极及电源 / 离子源及电源 / 气体传输，如蒸汽源

下载产品宣传册以了解更多信息：Voyager Brochure (PDF 942kb)

 

 

 

蒸发，磁控溅射，离子束溅射