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等离子体增强化学气相沉积
物理气相沉积
离子束溅射/刻蚀
磁控溅射
 
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Desk
Desktop Pro
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Discovery HDG
Helios
Integrity
Phoenix
CC-105离子源
 
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Sputtering System
 
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Desktop Pro
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桌面型高性能磁控溅射系统
Desktop Pro提供了一种高性能,小巧,实惠的磁控溅射系统

节省空间
Desktop Pro只需要不到36英寸的空间(0.9m)

节省费用
一个电源可以驱动两个靶枪

均匀性好
倾斜的靶枪和旋转工件盘使得在整个工件盘上达到5%的镀膜均匀性

抽真空速度快
抽速65lps的涡轮分子泵,保证系统优秀的抽真空性能和对反应气体的负载能力

Desktop Pro产品彩页下载

Desktop Pro Sputtering System
 

强大的控制系统
基于PLC的触摸屏控制系统提供下列操作模式:维修模式,手动操作模式和半自动操作模式

互锁保护避免不适当操作对人员和设备的损害

 

 

典型应用

磁控溅射

  • 磁控溅射
  • 材料研究
  • 产品质量控制和分析
  • 半导体失效分析
  • 纳米技术
  • 复合半导体

 

 
可选项
磁控溅射
液氮冷阱
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共溅射
check
射频/直流溅射电源
check
多靶枪
check
质量流量控制器,精确控制气体流量
check
泵选项
无油机械泵
check
 
...   ...

 

 

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