蒸发,磁控溅射,离子束溅射

 

INTEGRITY 蒸发系统

 

Integrity 镀膜设备系列是丹顿真空历史最长的产品,应用于精密光学以及半导体,微电子等行业镀膜。丹顿真空一直是新技术的倡导者和实践者:

  • 开发美国最早的商用电子枪
  • 离子辅助镀膜技术应用的先驱
  • 自动控制技术开发应用的先驱

丹顿IntegrityŽ蒸发镀膜系统可为您提供一个功能强大、配置灵活的镀膜平台,并提供充分的选择以满足您特定的应用要求。

Integrity 蒸发镀膜系统

系统技术规格

真空室尺寸:   系统真空室直径从26"660mm)到80"2032mm)。

泵系统:   机械泵+扩散泵或低温泵,深冷系统(防返油及提高抽速)可选。

蒸发源:   多种型号270度电子枪以及电源(3KW6KW10KW),电阻蒸发源。

离子源:   丹顿真空CC-105宽束冷阴极离子源或客户指定离子源。

工装系统   标准行星式,钟罩式,Knusden式以及特殊要求的夹具,如可自动翻面夹具。

光学膜厚监控系统:   丹顿真空LambdaPro光学膜厚监控系统,波长范围350nm2000nm可选。

晶体膜厚控制系统:   IC5XTC/2MDC360可选,探头形式有单探头,双探头或六探头可选。

自动控制:   全自动计算机控制或PLC(可编程逻辑控制器)触摸屏控制可选。

下载产品宣传册以了解更多信息:Integrity Brochure (PDF 389kb)

 

 

 

蒸发,磁控溅射,离子束溅射