蒸发，磁控溅射，离子束溅射

 

DISCOVERY HDG系统

 

丹顿真空与美国Veeco公司合作推出的Denton 公司DiscoveryŽ HDG 离子束系统，产品成熟可靠，功能灵活，适应多种高端应用要求。

DiscoveryŽ HDG 离子束系统可以实现：

• 离子束沉积以及离子束辅助沉积，主要优点包括：高致密膜层结构；薄膜特性对环境稳定；稳定的膜层沉积速率；化学成分稳定


• 离子束刻蚀以及反应离子束刻蚀，可以实现优秀的刻蚀均匀性


• 多种可选项，以适应不同应用要求：多种离子源可选；多种 工装夹具可选；多种镀膜控制方式可选；剩余气体分析；自动化控制方式可选

 

离子束溅射成熟工艺包括：

• 精密光学镀膜                     

• Encapsulation films

• Interconnections

• Contacts

• Under-bump metallization    

• X-ray mirror optics

          

离子束刻蚀以及反应离子束刻蚀成熟工艺包括：

• 探测器和传感器         

• 激光器                   

• MEMS

• Surface Texturing

• III/V and traditional SEMI  

 

系统技术规格：

ˇ  当配置为离子束沉积时，最多可以安装四个直径5英寸靶材

ˇ  提供单旋转倾斜式工装夹具，工件尺寸6英寸或8英寸，带水冷；

ˇ  为获得更好的均匀性，提供行星式倾斜式工装夹具，三个6英寸行星工件盘，带水冷；

ˇ  可以沉积无漂移光学薄膜；

ˇ  可以在低于10-4 torr的真空度下沉积，提高成膜纯度；

ˇ  配置双离子源时，可以实现基片预清洗，提高膜层附着力；

ˇ  全自动成膜工艺控制；

ˇ  多种Veeco公司射频或直流离子源可供选择；

ˇ  高真空低温泵或涡轮分子泵可选；

ˇ  对于离子束沉积，成膜厚度控制可以采用时间控制或石英晶体膜厚控制仪控制；

ˇ  对于离子束刻蚀，工艺控制可以采用时间控制或辉光光谱分析仪控制以及二级离子质谱仪控制；

下载产品宣传册以了解更多信息：Discovery HDG Brochure (PDF 3.1mb)

 

 

 

蒸发，磁控溅射，离子束溅射