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丹顿真空新推出中心进样室机械传送系统。 该系统能够在多个系统之间传送工件，从而将多个系统连接起来。对于需要多道工艺处理的工件可以在不破坏真空的条件下完成工艺。因此，可以将磁控溅射系统 (射频/直流/脉冲溅射，共焦或垂直溅射方式) 和PECVD 系统联为一体。 欲获取更多相关信息，请联系丹顿真空北京代表处。 |
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丹顿真空新推出中心进样室机械传送系统。 该系统能够在多个系统之间传送工件，从而将多个系统连接起来。对于需要多道工艺处理的工件可以在不破坏真空的条件下完成工艺。因此，可以将磁控溅射系统 (射频/直流/脉冲溅射，共焦或垂直溅射方式) 和PECVD 系统联为一体。 欲获取更多相关信息，请联系丹顿真空北京代表处。 |
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